长鑫存储DRAM技术突破 DDR5量产推进国产芯片自主化中国内存厂商长鑫存储（CXMT）近期在DRAM领域取得重要进展，已成功量产17nm工艺的DDR5内存芯片，良率从50%提升至80%，计划2025年底达到90%

Wed, 22 Jan 2025 10:28:30 GMT

长鑫存储DRAM技术突破 DDR5量产推进国产芯片自主化

中国内存厂商长鑫存储（CXMT）近期在DRAM领域取得重要进展，已成功量产17nm工艺的DDR5内存芯片，良率从50%提升至80%，计划2025年底达到90%。目前月产能为5万片晶圆，2025年计划再增5万片。国产模组品牌金百达、光威已推出基于CXMT芯片的“国产DDR5”产品，标志着中国首次进入高端DRAM市场。

长鑫存储当前主力工艺为19nm DDR4（月产能10万片），2024年底实现18.5nm工艺批量生产，二期项目完成后产能将达1.4万片/月，占全球产能10%。同时，其高带宽内存（HBM）开发加速，已启动HBM2客户样品测试，计划2025年中量产，为国产AI芯片提供支持。

市场方面，中国存储厂商全球市占率从五年前的近乎零增至5%，2025年有望突破10%。长鑫的DDR4/LPDDR4X产品已供应小米、传音等手机品牌。低价策略迫使三星、SK海力士等巨头转向高端市场，2023年存储芯片价格暴跌50%，国际厂商亏损超1500亿元。

近期传闻称长鑫开始量产10nm级DRAM（D1z节点），但行业分析显示其工艺或为等效命名（如17nm），实际技术节点仍落后国际巨头1-2代。美国技术限制试图将中国DRAM工艺“卡死”在18nm以下，但长鑫通过自主创新持续突破，未来需应对地缘政治风险与先进制程挑战。

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长鑫存储DRAM技术突破 DDR5量产推进国产芯片自主化中国内存厂商长鑫存储（CXMT）近期在DRAM领域取得重要进展，已成功量产17nm工艺的DDR5内存芯片，良率从50%提升至80%，计划2025年底达到90%