据路透社报道，一位知情人士称，中国已开始大规模生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机，这项技术对先进芯片制造至关重要。这标志着北京在减少对外国技术依赖方面迈出了关键一步。

该消息人士称，一家鲜为人知的中国国有企业——上海爱晟纳电子科技集团，在整合了中国顶尖光刻初创公司的团队后，正牵头负责此次生产工作。由于事涉敏感，该消息人士要求匿名。

科技行业新闻媒体《The Information》于周一率先报道了中国研发该设备的消息，并指出一家未具名的上海国资背景公司已开始制造这些机器，计划今年生产约5台，2027年生产约20台。路透社则是首家披露该公司具体身份的媒体。

该消息人士称，爱晟纳的DUV光刻机预计还需进一步测试，与荷兰公司的竞争机型相比仍有很大差距。

然而，如果西方政府进一步限制外国光刻设备的出口或维护服务，该设备的成功部署将为中国的芯片制造商提供一个替代的设备来源。

据《The Information》援引两位知情人士的话报道，国产DUV光刻机预计将于今年交付给中国领先的芯片制造商，包括中芯国际、华虹半导体以及存储芯片制造商长鑫存储。

阿斯麦未立即回应置评请求。中芯国际、华虹和长鑫存储也未回应置评请求。